半導(dǎo)體晶圓CMP材料整體解決方案
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SIPOL拋光液:適用于單質(zhì)半導(dǎo)體CMP的拋光液。
COPOL拋光液:適用于化合物半導(dǎo)體CMP的拋光液。
無紡布拋光墊:通常被使用于粗磨或中磨,具有一定程度的平坦性和平滑性。
阻尼布拋光墊:通常被使用于高平滑性,低欠陷性的精磨工序。
切割液:性能極為穩(wěn)定,易清洗粘度穩(wěn)定,分散性好,不隨溫度改變,切割速率快,產(chǎn)品使用壽命長。
懸浮劑: 適用于氧化鋁、碳化硅、碳化硼、氧化鈰等常用磨料,均能提供良好持久的分散能力。
吸附墊:將工件黏附在制具上,潤濕后特殊微孔吸附住工件,使工件在加工過程中固定不脫落。